ASPCMS官网,ASPCMS社区,ASPCMSapp下载
  •  首页
  •  热点
  •  百科
  •  娱乐
  •  科技
  •  资讯
  •  药品
  •  美容
  •  时尚
  •  登录
  1. 标签
  2. TechInsights
  • TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

    目前有 31 家晶圆厂采用 EUV 光刻,到 2030 年将增长至 59 家,而 EUV 光刻设备的数量增幅则将超过 100%。
    ASMLEUV光刻机TechInsights
    fjmyhfvclm4月前
    910
  • SEMI:两年来首度,2025Q3 半导体制造业所有关键指标环比正增长

    季节性周期因素和对 AI 数据中心的强劲投资推动了半导体行业在三季度的整体增长,但消费、汽车和工业领域的复苏仍然较慢。
    SEMITechInsights半导体
    fjmyhfvclm4月前
    710
CopyRight © 2025 All Rights Reserved
Processed: 0.026, SQL: 4