这种独特的分子结构赋予其卓越的耐温耐碱性能，可适应高温、高pH、高硬与高碱等苛刻条件，对氧化铁、磷酸钙、磷酸锌及碳酸钙等沉积物具有优异的抑制与分散效果，可替代传统羧酸-磺酸-非离子共聚物使用。 共聚物TH-6…

统基化磁珠是一种表面修饰有巯基（-SH）的磁性微球，以下是其详细介绍： 一般先制备出磁性微粒，如通过共沉淀法、水热法等制备氧化铁纳米颗粒等磁性材料，然后利用化学偶联等方法将巯基等官能团连接到磁性微粒表面，从而…

芯片掩膜清洗的原理是通过物理和化学手段结合，去除掩膜版表面的污染物（如颗粒、有机物、金属离子等），同时避免损伤掩膜图形结构和基底材料。适用场景：预清洗阶段去除大颗粒，或配合化学溶剂增强清洗效果。 适用：光刻…

光刻掩膜版的清洗是确保光刻精度和良率的关键步骤，需根据掩膜版类型（如石英掩膜、铬版、二元掩膜等）和污染物类型（颗粒、有机物、金属残留等）选择合适的方法。 作用：氧化有机物（如光刻胶残渣）为CO₂和H₂O，去除…

该产品可在高温、高pH、高硬及高碱等苛刻工况下稳定运行，对氧化铁、磷酸钙、磷酸锌和碳酸钙等具有显著的阻垢和分散性能，可替代传统羧酸-磺酸-非离子共聚物产品。TH-615阻垢分散剂的常规推荐用量为10～40 …

靶向配体、抗体、核酸和环境响应基团修饰、荧光修饰、药物、基因、质粒和蛋白等包封、光敏剂Ce6、磁性Fe3o4等纳米颗粒包封 负载转铁蛋白（Tf）修饰的超顺磁性氧化铁纳米颗粒（USPIO）的肿瘤坏死因子α外泌…

JNT-1型常温氧化铁脱硫剂主要成份为合成活性羰基氧化铁,由人工合成的氧化铁加入特种助剂、成型挤条而成,具有较大的孔容和比表面积,因而具有较高的净化度及较高的硫容,强度大,抗水性好。 JNT-1型脱硫剂能在…

JNT-2型宽温复合氧化铁脱硫剂是化学工业与化肥工业等工业原料气的净化剂,使用温度为200℃~350℃,350℃~650℃,经JNT-2型脱硫剂处理过的工业原料气,总硫含量可降至0.1×10-6(vv),…