应用材料取得等离子体处理腔室中用于高偏压射频(RF)功率应用的静电卡盘专利

金融界2025年6月6日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司取得一项名为“等离子体处理腔室中用于高偏压射频(RF)功率应用的静电卡盘”的专利，授权公告号CN113474876B，申请日期为2025年02月。